เพชรที่ปลูกในห้องปฏิบัติการ CVD อย่างหยาบนั้นเติบโตจากแผ่นเพชร. แผ่นเพชรถูกวางไว้ในสภาพแวดล้อมที่มี 2 คาร์บอนที่มีก๊าซ: ไฮโดรเจนและมีเทน. เมื่อใช้แรงดันและความร้อนแล้ว, ธาตุคาร์บอนจะแยกตัวออกจากก๊าซเพื่อสร้างพลาสมาคลาวด์. อุณหภูมิที่ใช้ในกระบวนการนี้อยู่ระหว่าง 800-900 องศาเซลเซียส. เมฆพลาสมานี้จะแยกองค์ประกอบคาร์บอนลงบนแผ่นเพชร และในที่สุด เพชรก็จะเติบโตขึ้นทีละชั้น. เพชรดิบจะพร้อมใช้ภายในไม่กี่สัปดาห์ ซึ่งต้องมีการเจียระไนและขัดเงาเช่นเดียวกับเพชรอื่นๆ.